プラズマCVD装置 製品概要 仕様 600mm 基板に対応した大型プラズマCVD装置です。 緻密なシリコン酸化膜の形成が可能で薄膜キャパシタの作製に適しています。 ロードロック式プラズマCVD装置 仕様 関連製品 研究開発用スパッタリング装置 マルチチャンバスパッタリング装置 ロードロックスパッタリング装置 超高真空スパッタリング装置 大型樹脂基板用蒸着装置 一覧を見る
ロードロック式プラズマCVD装置 
